Власти дадут «Зеленоградскому нанотехнологическому центру» 5,7 млрд на создание технологии уровня 130-65 нм

Минпромторг России провел конкурс на разработку отечественной установки для печати микросхем на кремниевых пластинах в соответствии с технологическими процессами 130-65 нм. Победу в нем одержал единственный претендент – «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ), следует из конкурсной документации, опубликованной на официальном сайте Единой информационной системы в сфере закупок (zakupki.gov.ru).

Финальная стоимость контракта составила 5,7 млрд руб., на 200 млн руб. меньше первоначальной. Итоги тендера были подведены 18 ноября 2021 г., первым внимание на них обратил «Коммерсант».

Согласно тендерной документации, фотолитографическая машина должна состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения (ПО). Срок выполнения работ – ноябрь 2026 г. Основанием для выполнения опытно-конструкторских работ названа государственная программа «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности».

Одним из ключевых компонентов оборудования должен стать отечественный лазер, пояснил в разговоре с «Коммерсантом» генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев. Возглавляемая им компания рассматривает сразу несколько партнеров.

Как отмечает исполнительный директор Ассоциации разработчиков и производителей электроники Иван Покровский, технология 130-65 нм, несмотря на свой внушительный возраст, все еще востребована на российском рынке. Она, в частности, применяется при производстве современных микроконтроллеров и периферийных микросхем. Такие полупроводниковые изделия используются в автомобильной электронике, устройствах интернета вещей (например, счетчики электроэнергии), кассовом оборудовании.

По мнению эксперта, поставленная Минпромторгом задача выполнима, но потребует совместных усилий отечественных предприятий. Тем не менее, об обретении полной независимости радиоэлектронной отрасли от импорта говорить не приходится, даже в случае успеха мероприятия, – России еще долгие годы придется приобретать фоторезист и кремниевые пластины в США, Франции и Японии, считает Покровский.

По данным источника «Коммерсанта», близкого к Минпромторгу, в России не выпускается оборудование для фотолитографии, а его приобретение за рубежом затрудняют санкции. Самая прогрессивная топология, освоенная отечественными производителями полупроводников, – 90 нм.

В феврале 2014 г. зеленоградская компания «Микрон» объявила о готовности тестовых образцов микросхем, созданным по технологии 65 нм. Сообщалось, что в технологическом процессе 65-нанометрового производства «Микрона» используется ультрафиолетовая фотолитография с длиной волны излучений 193 нм, которая применяется для серийного производства 90-нанометровых чипов (Intel освоила эту технологию в начале «нулевых» годов).

Внедрение 65-нанометрового техпроцесса в производство чипов стартовало в середине «нулевых». Тестовые образцы полупроводниковых пластин, выполненные по данной топологии, в 2004 г. получили японские Toshiba и Fujitsu. К 2005 г. технологию освоила тайваньская TSMC.

В 2006 г. американская Intel начала массовый выпуск своих 65-нанометровых процессоров семейств Core, Pentium 4 и D, Xeon. В 2007 г. к ней присоединилась AMD с Athlon и Thurion 64, а также серией Phenom.

По состоянию на ноябрь 2021 г. самый «продвинутый» техпроцесс, по которому Intel массово выпускает чипы, 10-нанометровый. 12-е поколение процессоров Core (Alder Lake) корпорация представила в конце октября 2021 г. Их производительность в сравнении с предыдущим поколением выросла в среднем на 19%, а в некоторых задачах – более чем на 30%.

Самые передовые процессоры в плане выбора техпроцесса производит TSMC. В частности, по заказу Apple фабрика по топологии 5 нм выпускает чипы A15 для новейших iPhone 13 и даже 4 нм для выпущенного на днях процессора MediaTek Dimensity 9000.