США надавили на болевые точки чипмейкеров Китая, ограничив поставки ASML

Последние меры контроля за экспортом чипов в США выявили слабое звено Китая в цепочке производства полупроводников, пишут китайские аналитики.

ASML будет ограничена поставка некоторых литографических систем DUV, включая Twinscan NXT1980Di, в Китай, который является третьим по величине рынком компании. Аналитики полагают, что новые меры, если они будут строго соблюдаться, могут также ограничить усилия Китая по расширению мощностей по производству чипов по зрелым техпроцессам.

Усиление контроля со стороны правительства США, нацеленное на поставку Китаю менее совершенных систем литографии, выявило дефицит оборудования для производства чипов в Китае, несмотря на недавний прогресс в достижении общей цели Пекина по обеспечению полупроводниковой самодостаточности.

Ссылаясь на соображения национальной безопасности, последние санкции администрации Байдена, которые ужесточали правила, изданные в октябре прошлого года, направлены на то, чтобы подорвать развитие искусственного интеллекта в Китае, перекрывая доступ страны более совершенному оборудованию для производства чипов от ASML и чипам для центров обработки данных от Nvidia.

В 121-страничном документе, подробно описывающем обновления контроля за экспортом инструментов для изготовления чипов, Бюро промышленности и безопасности США ужесточило ограничения на множество оборудования, необходимого для ключевых процессов изготовления полупроводниковых пластин, включая литографию, травление, осаждение, имплантацию и очистку.

В частности, принятый документ отменил правило «de minimis», которое предоставляло Вашингтону полную власть над любым продуктом неамериканской компании, если этот продукт содержит не менее 25 процентов технологий американского происхождения. Однако последнее изменение в правиле, по сути, сделало долю технологий американского происхождения несущественной, и теперь де-факто устанавливает более высокую планку, чем правила экспорта, опубликованные правительством Нидерландов в июне. Нидерландской компании ASML будет ограничена поставка некоторых систем литографии глубоким ультрафиолетом (DUV), включая Twinscan NXT1980Di, в Китай, который является третьим по величине географическим рынком компании.

«Это означает, что системы литографии, в том числе изготовленные ASML и другими компаниями, как только они будут соответствовать параметрам, указанным в США, будут подвергаться экспортному контролю США независимо от доли технологий американского происхождения», — сказал Деннис Лу, адвокат Guo Yin Law.

«Если не будет доступных местных заменителей и 1980Di не будет поставляться влияние будет огромным как на производство по продвинутым техпроцесам, , так и по зрелым», — сказал Дрейди Ванг, заместитель директора исследовательской фирмы Counterpoint.

ASML 1980Di, ставший промышленной рабочей лошадкой для многих китайских производителей пластин, был представлен голландской фирмой в 2015 году. В технической литературе по системе пошагового сканирования, способной обрабатывать 275 пластин в час, указано, что она может обрабатывать узлы от от зрелого 40-нанометрового процесса до продвинутого менее 10-нм. Однако упоминание о возможностях менее 10 нм было удалено из последней версии.