Минпромторг даёт 9 млрд на создание в РФ технологий выпуска чипов прошлого века

Как выяснил CNews, в ближайшие годы в России может появиться ряд собственных актуальных технологий, необходимых для выпуска микросхем, создаваемым по топологии 250-65 нм. К таким выводам можно прийти, изучив данные портала госзакупок.

В частности, в один день, 30 июня 2023 г. Минпромторг объявил сразу пять тендеров на осуществление опытно-конструкторских работ (ОКР) по рассматриваемой тематике.

Их описания говорят сами за себя. Название одной из ОКР: «Разработка и освоение в производстве установки лазерного устранения дефектов и постановка технологического процесса устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм». Работам присвоен шифр «Прогресс-ретушь». Начальная цена контракта в тендере выставлена на уровне 1,16 млрд руб.

Название другой: «Разработка и освоение в производстве установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм». Работам присвоен шифр «Прогресс-контроль». Начальная цена контракта — 1,41 млрд руб.

Еще одна ОКР названа «Разработка и изготовление опытных образцов установок электрохимического осаждения для обеспечения серийного производства микроэлектроники на пластинах 100 мм/4 дюйма и 200 мм/90 нм». Шифр — «Горизонт-ЭХО». Начальная цена контракта — 800 млн руб.

Названия еще двух ОКР практически идентичны: «Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ-компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках карбида кремния с проектными нормами 0,25 мкм» (шифр «Т-НГ-1»; начальная цена контракта — 2 71 млрд руб.) и «Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ- и силовых компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках кремния с проектными нормами до 0,25 мкм» (шифр «Т-НГ-2» »; начальная цена контракта — 3,13 млрд руб.).

В данном случае аббревиатура СВЧ расшифровывается как сверхвысокачастотный. Что же касается 0,25 мкм, то в более удобной для современного восприятия интерпретации это топология изготовления чипов 250 нм.

Таким образом, общая сумма выделенных на проекты средств составила 9,2 млрд руб. Все тендеры были запущены в формате открытых конкурсов. Заявки на них от претендентов будут приниматься до 17 июля 2023 г. Итоги первых трех тендеров планируется подвести 21 июля. Двух последних — 26 июля.

Из тендерных документов следует, что первые три из перечисленных ОКР должны быть выполнены до 30 ноября 2026 г. Последние две — до 30 ноября 2025 г.

В ходе первого из перечисленных проектов будущему подрядчику предстоит провести расчеты для ультрафиолетовых объективов и параметров оптической системы лазера для устранения в изделиях оптических дефектов, а также разработать эскизный проект установки, конструкторскую, технологическую и эксплуатационную документацию, после чего изготовить два опытных образца установки.

Ожидаемые результаты второй ОКР — аналогичны. Проект также подразумевает создание двух опытных образцов соответствующей установки.

Два образца изделий также должен изготовить и исполнитель третьей ОКР. В отношении них госзаказчик отмечает, что прямые отечественные аналоги на рынке сейчас отсутствуют. «Функциональными аналогами являются установки SolsticeS8, SolticeS4, SolticeLT компании ClassOne; StratusP300 компании Asmptnexx; NokotaECD, RaiderECD компании AppliedMaterials; серия Sabre компании LamResearch», — говорится в ТЗ.

В двух последних проектах от подрядчика потребуется разработать типовые технологические процессы по заявленным тематикам.

В ТЗ двух последних тендеров прямо говорится, что по итогам проектов к разработанным технологиям будет обеспечен доступ сторонних организаций, которые смогут на их основе осуществлять выпуск своих изделий «в режиме контрактного производства». В ТЗ первых трех ОКР подобных указаний нет.

Как видно по названиям, все ОКР касаются техпроцессов выпуска микросхем с топологией в диапазоне 250-65 нм. Поэтому стоит отметить, что микроэлектронный лидер России, зеленоградский «Микрон», массово выпускает чипы на 180–90 нм. На предприятии также освоен выпуск по топологии 65 нм, но лишь для штучных партий — инженерных образцов.

Освоенный «нанометраж» фабрики другого флагмана выпуска российской микроэлектроники, зеленоградского «Ангстрема», не вполне понятен, но он в любом случае уступает технологиям «Микрона».

Также в перспективе на проектные нормы в 250-180 нм должен выйти новосибирский «Восток». Правда запуск новой линии выпуска чипов у него буксует.

При этом стоит отметить, что по современным меркам весь упоминавшийся выше топологический диапазон в 250-65 нм — это «прошлый век». Например, 250-нм техпроцесс вышел на массовый рынок в 1998 году, а 90-нм процессоры стали продаваться в 2002 году, хотя опытные чипы на нем были уже в 1999 году. Таким образом, если СССР в последние свои годы отставал в техпроцессах от Запада примерно лет на 10, то сейчас отставание России в этом аспекте превышает четверть века, и пока неизвестно, когда она сможет его хоть немного сократить. 

Тем не менее, произведенная по таким нормам продукция все равно остается очень востребованной до сих пор. И производится, в том числе, на тайваньских и европейских фабриках.

В то же время в России еще в январе 2020 г. была утверждена стратегия развития электронной промышленности на период до 2030 г., которая подразумевала строительство фабрик, способных выпускать чипы с топологией 28 нм и ниже (вплоть до 5 нм). Однако точные сроки появления таких фабрик в стратегии прописаны не были.

Проект создания фабрики на 28 нм в России действительно был запущен, однако все опрошенные редакцией участники рынка комментировать его отказываются. Представители Минпромторга в осенью 2020 г. называли его закрытым (секретным).