Китай рекламирует собственные установки для фотолитографии

Китайское правительство продвигает две новые отечественные машины для производства чипов, поскольку страна стремится к технологической самодостаточности в условиях санкций США.

Китайские компании добились значительных технологических прорывов, обладают правами интеллектуальной собственности, но еще не выпустили на рынок» литографическое оборудование, которое производит сложные чипы на кремниевых пластинах, сообщили в Министерстве промышленности и информационных технологий (MIIT).

Одна из машин для глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) работает на длине волны 193 нанометра (нм) с разрешением ниже 65 нм и точностью наложения ниже 8 нм, согласно новому списку «основного технологического оборудования», опубликованному MIIT ранее на этой неделе.
Другая машина DUV имеет длину волны 248 нм с разрешением 110 нм и точностью наложения 25 нм.

Эти две машины по-прежнему сильно отстают от самых передовых вариантов, доступных на рынке. Например, одна из самых передовых машин DUV голландского производителя оборудования ASML Holding может работать с разрешением ниже 38 нм с точностью наложения 1,3 нм.

Машины DUV также отстают от машин экстремального ультрафиолета (EUV), которые используют свет с длиной волны всего 13,5 нм — почти в 14 раз четче, чем 195 нм DUV.