В список добавлено 23 позиции оборудования, необходимого для производства чипов, включая некоторые виды оборудования, необходимые для работы с EUV-литографией.
Данный вид технологии позволяет выпускать продвинутые полупроводниковые компоненты в рамках 7-нм и более «тонких» литографических норм.
«Производство передовых полупроводниковых устройств будет почти безнадежным для Китая, по крайней мере, в краткосрочной и среднесрочной перспективе», — сказал Йошиаки Такаяма, научный сотрудник Японского института международных отношений
Действия Японии по ограничению доступа к оборудованпию для производства микросхем были предприняты после того, как в октябре США ужесточили контроль над экспортом в Китай с прицелом на чипы, используемые в суперкомпьютерах и искусственном интеллекте, которые потенциально могут применяться в военных целях.
По данным Международного торгового центра, Япония является основным источником оборудования для производства полупроводников в Китае, на нее приходится около трети китайского импорта в стоимостном выражении в этом сегменте в 2022 году.