Компания Nikon анонсировала разработку системы цифровой безмасочной литографии с разрешением 1,0 микрон. И это не опечатка! Это аж на 3 порядка более грубо, чем то, как делают самые современные чипы…
Быстрое внедрение технологий искусственного интеллекта (ИИ) повышает спрос на интегральные схемы (ИС) для центров обработки данных. Несмотря на миниатюризацию схем проводки, размеры готовых микросхем увеличиваются, в том числе из-за перехода на чиплетную компоновку, когда на одной подложке собирается множество микросхем. Это приводит к росту спроса на корпусы панельного уровня, в которых используются стекло и другие материалы, подходящие для более крупных корпусов, требующих оборудования для экспонирования, сочетающего высокое разрешение с большой площадью экспонирования. Чтобы удовлетворить эти потребности, компания Nikon разрабатывает цифровое оборудование для экспонирования, которое сочетает в себе технологию полупроводниковой литографии с высоким разрешением, созданную за многие десятилетия, и превосходную производительность, обеспечиваемую технологией многолинзовых литографических систем FPD.
Цифровая литографическая система не использует фотошаблоны. Вместо этого она направляет свет от источника на пространственный световой модулятор (SLM), который отображает рисунок схемы и переносит его на подложку с помощью проекционной оптической системы. Поскольку нет необходимости разрабатывать или изготавливать фотошаблоны, цифровая литографическая система также способствует снижению затрат, а также сокращению времени разработки и производства продукции.
По масочной фотолитографической технологии с нормами около 1 микрона изготавливались, например, процессоры i80386 и ранние i80486. Последние до сих пор нередко можно встретить в работающем промышленном оборудовании и несписанном вооружении… По «особо толстым» техпроцессам также изготавливаются радиационно-стойкие микросхемы для космоса и спецприменений, для которых как раз не нужно крупносерийного производства, а оперативный выпуск будет полезен.