В НИИТМ создали первую отечественную установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм.

Новый комплекс предназначен для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм с возможностью изменения конфигурации для работы с пластинами 200 мм. Это дает возможность тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых технологических процессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах, – цитируют «Известия» начальника отдела перспективных разработок НИИТМ Георгия Ерицяна.

До настоящего времени отечественные предприятия по производству ИМС оснащались исключительно зарубежным оборудованием.

Сегодня мировые ведущие фабрики используют 300-миллиметровые пластины для создания микросхем с топологическими нормами от 3 до 90 нм. В современных производствах исключают влияние человека на обрабатываемые пластины: применяют герметичные контейнеры и локальные камеры с системами обеспыливания, автоматизируют операции перемещения пластин. Для удовлетворения требований по дефектности, эффективности и производительности компании преимущественно используют кластерное оборудование для процессов травления и осаждения функциональных слоев.

Одно из ключевых достижений специалистов заключается в том, что в короткое время удалось локализовать производство значительного количества составных частей оборудования. Вместе с тем базовые технологические процессы, созданные в рамках проекта, не уступают импортным аналогам.